昨今の高性能半導体を製造するためには「極端紫外線(EUV)リソグラフィ」と呼ばれる技術が不可欠で、世界で唯一、オランダの企業ASMLだけが関連機器を製造していますが、アメリカの圧力を受けたオランダの制裁措置の影響でASMLは中国との取引を禁じられています。このため中国では高性能半導体の開発が滞っているのですが、新たに、中国が独自のEUVリソグラフィー装置を生み出したと伝えられました。
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